RDS(on)低至8.6mΩ,扬杰推出200V MOSFET Gen2.0系列

  发布时间:2026-07-10 19:57:42   作者:玩站小弟   我要评论
电子发烧友网综合报道 200V低压MOSFET数据中心电源、BLDC电机驱动、新能源等领域应用广泛,在低压领域MOSFET,SGT MOSFET由于其性能优势,正在获得快速增长,逐步取代传统的Tren 。

电子发烧友网综合报道 200V低压MOSFET数据中心电源、Ω扬BLDC电机驱动、杰推新能源等领域应用广泛,Ω扬在低压领域MOSFET,杰推SGT MOSFET由于其性能优势,Ω扬正在获得快速增长,杰推逐步取代传统的Ω扬Trench MOSFET。

SGT MOSFET全称Shielded Gate Trench MOSFET,杰推即屏蔽栅沟槽MOSFET。Ω扬SGT MOSFET基于传统沟槽MOSFET,杰推通过结构的Ω扬改进从而提升稳定性、低损耗等性能。杰推传统平面型MOSFET中,Ω扬源极和漏极区域是杰推横向布局的,栅极在源极和漏极区域的Ω扬上方,形成一个平面结构。

沟槽MOSFET则是源极和漏极区域垂直于半导体表面,栅极被嵌入到硅片中的沟槽内,形成垂直结构。相比传统的沟槽MOSFET,SGT MOSFET采用深沟槽结构,“挖槽”更加深入,栅极被嵌入到硅片的深槽中。同时SGT MOSFET在沟槽内部有一层多晶硅栅极(主栅极),其上方还有一层多晶硅屏蔽栅极,这个额外的屏蔽栅极可以调节沟道内的电场分布,从而降低导通电阻并提高开关性能。

由于屏蔽栅的存在,SGT MOSFET可以更有效地控制电场分布,从而减少寄生效应,降低开关损耗和导通损耗。也由于结构和更优的电场分布,SGT MOSFET可以在相同的击穿电压下使用更小的单元尺寸,从而减小芯片面积。

所以,SGT MOSFET相比传统的沟槽MOSFET,导通电阻和开关损耗可以更低,尤其是在中低压的应用领域中,屏蔽栅结构有助于提高器件可靠性,其高效率以及紧凑的芯片尺寸也能够更加适合这些应用。

最近扬杰推出了其200V MOSFET Gen2.0系列产品,正是采用了SGT工艺。该系列SGT MOSFET支持最低8.6mΩ的RDS(on),同时优化了正温度系数特性,支持多管并联均流,带来更低的导通损耗。

在开关性能上,优化了栅电荷总量 Qg, 显著降低开关振铃风险,同时消除体二极管反向导通损耗,提供了更低的切换损耗。

提供PDFN5060, TO-220F, TO-247-3L,TO-263等封装选项,其中TO-247封装下结壳热阻 RθJC ≤ 0.5℃/W,提供高效散热。芯片最高工作结温175℃,提供出色的散热性能,优异的温升表现。MOS产品EAS能力也得到优化,提高产品的可靠性。

SGT MOSFET在中低电压场景下由于更强的稳定性,更低的导通电阻和开关损耗,未来对Trench MOSFET有取代的趋势。由于应用广泛,目前主流的功率半导体企业都已经推出200V及以下的SGT MOSFET产品,包括华润微、捷捷微电、新洁能、士兰微、东微半导体等。随着产品的逐步替代,国内功率厂商也将会有更多的机会。

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